イオン注入は、半導体製造において重要なプロセスです。イオン注入装置はGGクォートを追加します。外来原子GGクォートを追加します。導電性や結晶構造などの材料特性を改善するために、ウェーハにイオン注入システムの中核は光路です。イオンは生成され、濃縮され、鋭く増強され、高速でウェーハに送られます。通常品と高純度品の2種類の半製品をご用意しております。
イオン注入用のタングステンとモリブデンのロッドをご用意しておりますので、ご希望の部品に加工できます。それで作られたイオン注入部品は、イオン注入をより集中させることができます。
