Supttering Target-Knowledge-Xi'an Econ Industrial Corp.を理解していますか

Supttering Targetを理解していますか

Supttering Targetマテリアルの主なパフォーマンス要件：

純度
ターゲット材料の純度はフィルムの性能に大きな影響を与えるため、純度は、ターゲット材料の主要な性能指標の1つですが、実際の用途では、ターゲット材料の純度要件は異なります。
不純物含有量
気孔中の標的固体および酸素と水に含まれる不純物は、堆積した薄膜の主な汚染源です。さまざまな目的のターゲットには、さまざまな不純物含有量に対するさまざまな要件があります。たとえば、半導体産業で使用される純アルミニウムおよびアルミニウム合金ターゲットには、アルカリ金属および放射性元素の含有量に関する特別な要件があります。
密度
ターゲットの固体の多孔性を低減し、スパッタされたフィルムの性能を改善するために、通常、ターゲットが高密度であることが必要です。ターゲット密度は、スパッタリング速度に影響するだけでなく、フィルムの電気的および光学的特性にも影響します。ターゲット密度が高いほど、フィルムの特性は向上します。さらに、ターゲットの密度と強度を高めると、ターゲットはスパッタリングプロセスでの熱応力によりよく耐えることができます。密度も、ターゲット材料の重要なパフォーマンス指標の1つです。
粒度と粒度分布
通常、ターゲット材料は多結晶で、粒径はミクロンからミリメートルの範囲です。同じターゲットの場合、微粒子を含むターゲットのスパッタリング速度は、粗い粒子を含むターゲットのスパッタリング速度よりも速く、粒度差が小さいターゲットによって堆積された膜の厚さ分布（均一な分布）はより均一です。